摘要：晶片清洗裝置是半導(dǎo)體行業(yè)中非常重要的一項(xiàng)設(shè)備，能夠有效地清洗晶片表面的污垢和殘留物，以確保晶片的可靠性和穩(wěn)定性。隨著科技的不斷發(fā)展，晶片清洗裝置也在不斷升級和改進(jìn)，其效率和可靠性得到了極大的提高。本文主要介紹晶片清洗裝置的技術(shù)升級對效率提高的必備選擇。正文：1.晶片清洗裝置的基本原理晶片清洗裝置的基本原理是利用化學(xué)方法或物理方法清洗晶片表面的污垢和殘