摘要：晶圓清洗裝置是半導(dǎo)體行業(yè)制造中不可或缺的一環(huán)，可以清除晶圓表面的雜質(zhì)和污染物，提高晶圓質(zhì)量和產(chǎn)量。本文從高效清洗和提升生產(chǎn)效率的角度，深入介紹了晶圓清洗裝置的幾個(gè)方面，包括裝置結(jié)構(gòu)、清洗原理、清洗方法、清洗劑和清洗效果，并引用了凱利環(huán)境集團(tuán)等