摘要：本文主要介紹了一種創(chuàng)新的機(jī)器清洗解決方案——DEK相機(jī)撞清洗裝置，該設(shè)備可以在機(jī)器運(yùn)行時(shí)對(duì)機(jī)器進(jìn)行清洗，既減少了生產(chǎn)停機(jī)時(shí)間，又可以保證整個(gè)清洗過(guò)程更加徹底。本文首先簡(jiǎn)述了機(jī)器清洗產(chǎn)生的難點(diǎn)，接著介紹了DEK相機(jī)撞清洗裝置的原理和優(yōu)點(diǎn)，最后闡述了該設(shè)備的未來(lái)發(fā)展方向。正文：一、機(jī)器清洗的難點(diǎn)隨著工業(yè)生產(chǎn)的發(fā)展，機(jī)器設(shè)備的使用頻率越